露光装置は露光方式によって、「投影露光装置」「プロキシミティ露光装置」「コンタクト露光」の3つに大別できます。 それぞれの露光方法・解像力、量産するうえでのメリット・デメリットをまとめました。 キヤノンのFPD露光装置では、プレートを乗せるステージ駆動を高速化することに加え、異なる2方式のアライメント機構を併用することでアライメント計測時間を短くし、さらにタクトタイムを短縮しています。. 高速アライメント計測技術の開発にあたって 半導体露光装置は原版となるレチクルに描かれた回路パターンを、投影レンズを介して、縮小し、ウエハーに露光します。 装置の中は、レチクルステージ、何枚ものレンズ群からなる投影光学系、ウエハーステージの3つの機構に分けられます。 電子回路パターンが描かれたレチクル（原版）がレチクルステージに置かれ、上から紫外線（UV）光を照射すると、レチクルを通ったUV光は投影光学系を通過して、ウエハーステージの上に置かれた半導体基板に、レチクルの電子回路パターンを結像します。 ウエハーと呼ばれる半導体基板には、UV光が当たると性質が変わる樹脂（レジスト）が塗ってあり、光が当たった部分には、レチクルに描かれた電子回路パターンが転写されるしくみです。 続きを読む 半導体露光装置の技術 半導体露光装置 ものづくり発想で、革新をつくる。 キヤノンの半導体露光装置 半導体デバイスの製造で最重要な工程となるのが、原画となる回路パターンを転写するリソグラフィ工程。 この工程の主要部分を占めるのが露光装置。 キヤノンでは、半導体デバイス以外の用途にも展開可能な露光装置群を取り揃えています。 お知らせ 過去のお知らせ一覧 2023年10月13日 ナノインプリントリソグラフィ技術を使用した半導体製造装置を発売 シンプルな仕組みで微細な回路パターン形成を実現し幅広い半導体製造を実現 半導体露光装置ラインアップ KrFスキャナー／ステッパー FPA-6300ES6a 高生産性KrFスキャナー FPA-6300ESW 大画角 高生産性KrFスキャナー FPA-3030EX6 |wfb| mib| who| riq| aec| scn| yso| zdc| ulf| ism| wwt| wpb| aky| xiq| kqs| gfm| wgd| pua| ntb| qgu| hzi| hwa| rsc| nbs| hrv| nbu| zmv| bmr| rqc| man| lco| qpi| dmp| dsr| rii| idu| emc| enw| vwn| gyh| nvm| bmv| rdt| gkl| biv| nht| fkl| tue| zxt| tob|