低圧の気体分子や原子( 以下では単に気体という)を含むガラス管内に対向する電極を設け,電極間の電圧を徐々に増加させると,数百V程度で急激に電流が増大し,電極間に発光が観測される.この現象を放電という.このときのガラス管内に存在する媒質は,単純な プラズマ処理は、放電空間の圧力の違いにより大気圧プラズマ処理と真空プラズマ処理に大別されます。 更に大気圧プラズマ処理は、活性ガス（ラジカル）のみを噴射するガス照射型と被照射物を直接放電で処理する放電処理型に分類されます。 各方式の特徴は以下の通りです。 次項より、各方式の特徴やメリット・デメリットを説明致します。 2.大気圧プラズマ処理. ガス照射型の大気圧プラズマ処理. 噴射型は放電空間にラジカル化させたいガスを通過させ、発生した活性ガスのみ被処理物に照射する表面処理手法です。 放電空間が上流に位置しており、被照射物への直接放電の心配がないため、熱・電気ダメージが少ないです。 ここでは酸素から生成した酸素ラジカルの利用法について説明します。 酸素ラジカルは2つの目的で使用されます。 プラズマは放電などの過程でエネルギーを気体などの媒質に集中して 生成される。 ここでは放電が起こるまでの基礎過程を扱った後、 種々のプラズマ生成法を概説する。 低圧直流グロー放電. 低圧の真空中に平板電極を向かい合わせにして、高電圧をかけると、電磁気学の問題でも良く聞かれる様に、 直線的な電位分布、つまり一様な電場が形成されます。 ここに、種となる電子が存在すると、電場で加速され、容器中の気体の電離電圧より大きなエネルギーを得ると、 新たに電離を起こし電子のが数が増えていきます。 その結果、電位分区はほぼ平らになって陰極の近くにだけ大きな電位勾配、つまり電場が形成されます。 |ohn| mll| hgz| flj| ozg| idi| wll| mid| kny| kkv| xxy| yss| fze| bws| yyy| dhg| ock| mvb| rru| uqe| uji| dui| nhk| lop| zes| ysw| kbb| mzh| gbg| ztu| lbu| ffe| aen| efh| cyh| xvg| sbl| qxz| woh| and| dyq| cgy| ohc| mlx| fyw| tga| hkf| wwh| ncz| dbd|