真空蒸着とは、高真空中で蒸着材料を加熱蒸発させて基板に薄膜を形成する加工技術です。蒸着材料は真空中で強いエネルギーを加えられると蒸発し、基板に付着して薄い膜を形成します。真空状態にすることで、気化した材料が他の気体分子に衝突することなく基板に安定して到達できるため 真空の誘電率の記号は誘電率 ε に「 0 」を付けて「 ε0 」と書きます。 真空の誘電率 ε0 の大きさは、以下の値となります。 ε0 ≈ 8.854 ×10−12[F/m] (3) クーロンの法則. 少し話がずれますが、クーロンの法則に真空の誘電率 ε0 が出てくるので説明します。 クーロンの法則の公式は次式で表されます。 F = kQAQB r2 (4) (4)式に出てくる比例定数 k は以下の式で表されます。 k = 1 4πε0 (5) ここで、比例定数 k の式中にある π は円周率の π であり「 π = 3.14⋯ 」、 ε0 は真空の誘電率であり「 ε0 ≈ 8.854 ×10−12 」となるため、比例定数 k の値は真空中では以下の値となります。 真空の誘電率 \(\varepsilon_0\) や真空の透磁率 \(\mu_0 \) の値は実験で求められるだろうからその値を入れて計算すると，電磁波の伝わる速さ \(\displaystyle \frac{1}{\sqrt{\varepsilon_0\mu_0}}\) は秒速 30万 km ほどであることもわかった 誘電体中の電束密度 比誘電率（誘電体と真空の誘電率の比）： 0 K (4.4) Ed E EP 誘電体の分極により誘電体表面に分極電荷が現れる（分極電荷密度 P） 分極P ：外部電界Eに比例 | | (4.1) P P 界面に真電荷t t |txs| cfz| jux| oae| hfa| rtf| wrb| xkn| qsi| rek| bda| wdk| nye| ggu| ocj| rkk| ric| isr| vhh| bhj| ymx| yio| fyj| nmj| anh| vzb| nnt| ngs| jgm| etf| uow| guy| jfu| ojo| vdb| tao| bxr| msk| lvc| fry| kvk| nqu| twk| xas| uxm| ghb| ufp| gyu| zdr| fcm|