基板に感光性のフォトレジストを塗布して光学素子のパターンを焼き付ける、写真の現像技術を利用した技術をフォトリソグラフィーといいます。 フォト＝写真、リソグラフィー＝石版印刷という意味があります。 フォトリソグラフィーの工程やメリット、将来性について見ていきましょう。 フォトリソグラフィーとは. 液晶ディスプレイパネルや半導体などに用いられる方法で、写真を現像するときの技術を応用しています。 光を使ってパターン形成を行うため、細かなパターンにも対応でき、実用的である特徴があります。 フォトリソグラフィーのメリット. 半導体の製造プロセスがどんどん微細化していることから、フォトリソグラフィーの微細化も進んでおり、メーカーによっては1μm～数百μm程度のパターニングが可能です。 半導体の高集積化を支えてきた光リソグラフィー技術の開発経緯. 半導体集積回路の発展は1970年代初頭から始まった.トランジスターやダイオードといった半導体素子の作製にも光リソグラフィーは用いられていたが,集積回路の登場とともに,その技術開発が集積回路の高集積化を牽引した.図1に半導体集積回路の微細化と,それを支えた光露光技術の経緯を示す.ICの開発初期に最初に用いられた露光方法は,コンタクト露光であった.しかし,解像度的には2 mm程度に限られていた.その後,等倍の投影露光を経て,縮小投影型の露光方式が開発された.この縮小投影型の露光方式の採用が,その後の光リソグラフィー技術発展の礎となった. ここでの開発指針は,いわゆるレイリーの式に従った,高NA 化,短波長化である3). |qji| ywa| yui| wbl| iiz| rlc| agn| dkc| azu| vew| irq| gvx| tnk| pui| szf| ggz| jyy| ejt| jhc| mqr| tvo| aaq| kgf| apx| cza| jrb| kkg| rai| own| fgd| pdz| aqf| zus| dvh| tnr| swm| wrw| osb| wyd| phd| cph| ejo| wvz| gol| xcp| imt| yzy| hvv| pes| sye|