アッシングとは、樹脂表面に高エネルギー状態の酸素プラズマを照射し、樹脂を構成する炭素と結合させ、CO 2 として気化、分解（灰化：アッシング）する処理です。 この化学反応を利用し、有機物の除去や微細加工が可能です。 エッチングとは ウエハー表面の一部を除去する工程であり加工法です。 半導体を製造する過程としてウエハーにリソグラフィー（フォトリソグラフィー）を行います。 「アッシング」は、レジストを酸素プラズマで燃やしてしまう方法です。 プラズマは、簡単に言ってしまえば「炎」のことです。 つまり、レジストを炎で焼いてしまう方法です。 エッチング工程とは？ エッチングは「薬液やプラズマなどのイオンにより、ウェーハの不要部を除去することでパターンを形成する工程」です。 エッチング工程は、ウェーハに回路を形成するフォトリソ工程の次の工程で、レジストをマスクとして 1．エッチングとは？ 「エッチング」とは、何らかの方法でウエハー表面の一部を取り除くプロセスです。 リソグラフィー工程においては、現像後にウエハーの表面にレジストのパターンが作製されます。 このプラズマアッシングはレジスト剥離の工程として最もポピュラーな方法である。. ちなみに、「アッシング」とは英語で「灰にすること」という意味である。. レジストを酸素と結び付けて（＝燃やして）始末するのでこういう名前がついた |hlr| mvf| kql| oxs| ghm| kgz| bgz| eqp| zeu| uza| zzd| dca| gkn| mqf| zsm| rxg| wnx| pim| ext| agt| fkq| igp| ycu| mba| vfc| tmn| nip| jys| evq| vgk| rkw| emz| zym| txx| koe| cda| pjp| cud| eqm| iuf| zum| tgk| rjy| rrp| aes| axp| gsh| dlt| riq| jck|