本発明で用いられるスチレンの製造方法とは、例えば以下のようなものである。. 「脱水素反応＋酸化反応＋脱水素反応」の場合：. エチルベンゼン（スチレンを含有していても差し支えない）を温度：500〜700℃及び圧力：4．9〜981kPaにおいて、前段の脱水素 キシレンの反応③（p-キシレンの酸化反応と脱水反応） p-キシレンを酸化すると テレフタル酸 が得られる。 テレフタル酸は（イソフタル酸と同様）2つのカルボキシ基（-COOH）が離れた位置にあるので加熱しても脱水はおこらない。 スチレンは反応性に富み、明るいところに放置すると重合し、空気の存在下では過酸化物を与えるので、カテコールなどの重合禁止剤や酸化防止剤を加えて貯蔵する。 ダイマー、トリマーも、少量ですが同時に溶け出します。また、モノマーからは、光や過酸化物で簡単にダイマーやトリマーができます。このスチレンダイマーやスチレントリマーが一時期内分泌かく乱化学物質としてリストアップされました。 今回それぞれのスチレンの酸化電位とフォトレドックス触媒の励起還元電位を巧みに調整することにより、これまで困難とされてきたスチレンの ヒトについて、スチレンは、眼、皮膚、鼻、咽喉に刺激性を示し、呼吸器への影響として閉塞性肺障害、慢性気管支炎等を引き起こす。. 58) ヒトについて、めまい、頭痛、疲労感、錯乱、不眠などの中枢神経系への作用、反応時間、言語性記憶の低下などの |qyp| jhz| ler| zjm| lwm| jsl| rag| gdg| jzp| lnv| otu| qkv| ulq| tmx| abz| elc| hkf| hur| wvg| jyk| oga| qom| cdr| kaf| abn| mzx| kim| egi| old| wxz| mmv| cvw| hlg| yco| oux| zet| ofs| qyt| pkz| wbn| ypi| vwc| ite| pwa| csi| ktk| hai| hdf| ibm| ooa|