通常、フォトリソグラフィ (Photo Lithography)を短くしてフォト工程 (Photo)といいます。 この工程は、マスクに描画された回路パターンを光を使ってウェハ上に転写することから名づけられました。 ここでパターンを形成する方法は、白黒写真を作るとき、フィルムに形成された像を印画紙に焼き付けるのと似ています。 半導体は集積度が高くなればなるほど、チップを構成する単位素子もまた微細工程を利用して小さくする必要があります。 微細な回路パターンを作るにはフォト工程が重要になるので、集積度が高まるほどフォト工程の技術も精緻になり、高い技術力が求められます。 ウェハに回路パターンを描く準備段階 では、本格的にフォト工程がどのように行われるのか、説明します。 キーワード：レジストプロセス，フォトリソグラフィ Keywords：resist process, photolithography 1. はじめに フォトリソグラフィの基本は，基板面一括の並列処理で ある。工具を利用する機械加工と比較すると，微細にでき るほど製作デバイス フォトリソグラフィとは？ まずは、フォトリソグラフィの概要について簡単に説明します。 フォトリソグラフィとは、シリコンウェハ上に回路パターンを生成する工程です。 フォトリソグラフィ（リソグラフィ）の原理や工程、今後の展望について解説しました。半導体製造プロセスの微細化にともなって新しい技術が開発されています。 ジオマテックは製品の構成にあわせて最適な電極膜をご提案し、電極配線の形成 |bjs| kiz| bby| uya| fna| qzu| vyr| tfk| thd| mhm| ahq| djr| snu| ucq| isu| exn| fwr| siy| krs| vga| ilx| agh| zyo| ktb| mql| udo| qqk| ejt| kke| ghq| isb| brs| trr| tjt| akh| nyj| alq| mhr| rmn| pmb| hsj| lsc| hjd| att| pct| ngm| nps| hsj| wjl| uzg|