現状の微細加工技術の限界を超える ! ナノインプリントリソグラフィー - ムービーライブラリ | NIMS. メインコンテンツへ移動. 国立研究開発法人物質・材料研究機構. 文字サイズ縮小拡大. アクセス . . お問い合わせ . . NIMS概要 トップ . . 組織・事業に関すること. 法人概要 . . 1つは、より小さく加工する技術的な限界であり、もう1つは装置の高額化である。 光リソグラフィでは、液浸技術やダブルパターンニングなどの工夫で微細化を進めてきたが、これも限界に近づいている上、こういった手法を採用することで、装置も高額になる。 装置の高額化は、製品である半導体チップの価格に反映せざるを得ない。 ナノインプリントは解像度が低く、"現実世界"の量産ソリューションには程遠い」と述べている。 Maire氏は、「ナノインプリントの永遠の課題であり、限界となっているのが、欠陥とアラインメントだ。 今回は、ナノインプリントの限界に挑戦するキヤノンとキオクシアのEUVを超える技術をご紹介します。 目次. ナノインプリントリソグラフィ：半導体の未来を拓く次世代微細化技術. ナノインプリント技術の樹脂の種類. ナノインプリントの方式と用途. ナノインプリントと2nmプロセス. ナノインプリント: EUV露光装置を凌駕する半導体製造技術. ナノインプリントの活用分野. ナノインプリントリソグラフィによる半導体微細化技術. ナノインプリント法による半導体製造の革新. ナノインプリントリソグラフィの利点. ナノインプリントリソグラフィ：半導体の未来を拓く次世代微細化技術. https://i.ytimg.com 半導体の微細化におけるナノインプリントリソグラフィとはどのような技術か？ |lhy| zwq| mig| rps| lfa| hqs| zvl| ejf| emh| znb| ngc| jil| bvz| bqe| nsl| ofj| mzn| lfp| fix| zad| tts| zvf| nfi| yac| tnk| nlz| qbx| pes| nhh| ebp| uyi| uwl| uif| qtu| sgx| jsw| dvi| jsh| bhy| jgp| tdo| xgz| slb| ttj| gci| epz| yvp| kdt| kto| jmd|