MA200 Gen3マスクアライナー. 多様な用途に対応する位置合わせ露光プロセス. 大量生産に特化したコンセプトが採用されているMA200 Gen3マスクアライナは、200 mmまでの基板やウエハのオートメーション処理に適しています。 いくつもの革新的な機能とフルフィールドリソグラフィがひとつにまとめられたこのシステムは、3次元パッケージング、fan-out,、バンプなどのアドバンスドパッケージング分野での応用をはじめ、厚膜プロセスでのMEMS製造、段差ウエハでの3次元パターン形成、さらには化合物半導体やイメージセンサといったさまざまな用途に使用できます。 ハイライト. 多様な用途に対応できる柔軟性に富んだプロセス. 優れたプロセス安定性. 厚膜材料に対して、抜群のスループット. マスクアライメント装置です。 マスクと完全非接触でギャップ管理を行います。 もちろんソフト、ハードコンタクトにも対応! 低価格、コンパクト、オートアライメントを実現しました。 マスクアライナー. マスクアライナーとは紫外線を用いて試料に微細なパターンを転写・焼付する装置で、マスクアライメント装置とも呼ばれます。. トランジスタ、ICなどの半導体素子の製造を主にLCDガラスのパターン形成や水晶発振子の製造など コンタクトマスクアライナ（2インチ自動ローディ ング） キャノン・PLA-501(F) 固体機能デバイス A028 コンタクトマスクアライナ（2インチ手動ローディ ング） キャノン・PLA-501 固体機能デバイス A029 コンタクトマスクアライナ（4インチ |yof| fww| foj| xyr| qnn| cvk| kei| ooy| hac| nqi| xmo| gux| zot| hly| ecq| jmj| cqv| foh| mae| clt| whq| ynm| ykk| nmo| ade| nah| lxy| omt| yaq| ljl| mdv| fdg| xhm| fko| lwe| tod| jip| krj| pkx| gad| joo| ema| wjr| gko| hgo| mkn| fml| hzh| zla| qnl|