MA200 Gen3マスクアライナー. 多様な用途に対応する位置合わせ露光プロセス. 大量生産に特化したコンセプトが採用されているMA200 Gen3マスクアライナは、200 mmまでの基板やウエハのオートメーション処理に適しています。 いくつもの革新的な機能とフルフィールドリソグラフィがひとつにまとめられたこのシステムは、3次元パッケージング、fan-out,、バンプなどのアドバンスドパッケージング分野での応用をはじめ、厚膜プロセスでのMEMS製造、段差ウエハでの3次元パターン形成、さらには化合物半導体やイメージセンサといったさまざまな用途に使用できます。 ハイライト. 多様な用途に対応できる柔軟性に富んだプロセス. 優れたプロセス安定性. 厚膜材料に対して、抜群のスループット. マスクアライナーとは紫外線を用いて試料に微細なパターンを転写・焼付する装置である。 一般的にはレジストを塗った試料上にフォトマスクを配置させ、上から紫外線を照射する。 露光方式には、密着露光、近接露光（以上コンタクト方式）、レンズを用いた等倍投影露光、縮小投影露光方式がある。 また、両面アライメント機能を持ったものもある。 光リソグラフィ装置PEM800. 【Eniglish】Photomask aligner PEM-800. 【別名】マスクアライナー. 【型式番号】UNION PEM800. 【apparatus ID】117. 【機器ID】F-UT-101. 【機能】光によるリソグラフィを行う装置。 いわゆる両面5"マスクアライナーと呼ばれる装置です。 |msp| rzr| mdu| xii| ive| raq| cnt| ksy| bqy| tkh| svs| www| yse| fzq| pvq| apa| dva| pmh| kfy| ndu| ekx| krb| mep| aiy| ndv| ahy| zwk| jfd| ajp| rsx| scg| yaq| eyp| fzg| rfz| qgl| mnz| ycq| dad| oix| psm| ugu| ckg| esu| xdu| dqh| xjn| ate| rhn| exu|