キヤノンの半導体露光装置 半導体デバイスの製造で最重要な工程となるのが、原画となる回路パターンを転写するリソグラフィ工程。この工程の主要部分を占めるのが露光装置。キヤノンでは、半導体デバイス以外の用途にも展開可能な露光 各社とも、半導体の素材や製造装置に強みを持つ日本企業と連携し、開発力を強化したい考え。とりわけTSMCは、年内に稼働する熊本県の前工程の 半導体露光装置 半導体のベースとなる基板（ウエハー）に、 回路パターンを露光して転写するための装置。 紫外光 レチクル レチクルステージ 投影光学系 ウエハー ウエハーステージ レチクル 半導体の回路パターンが描かれた原版のこと。 レチクル上のパターンがレンズで縮小されてウエハー上に投影される。 レチクルステージ レチクルを載せている台。 高速・高精度でウエハーステージと同期しながら移動する。 ウエハー 半導体の基板となるもの。 単結晶シリコンでできているものが一般的。 ウエハーステージ ウエハーを載せている台。 高速・高精度で移動する。 半導体露光装置 の詳しい仕組み (スキャナーの場合) 〜の数字を クリック レチクルの上から紫外光を照射します。 露光装置の仕組み. 原版をステージに置き、上から紫外線（UV）光を照射すると、光が投影レンズを通過して、半導体基板に回路パターンを結像します。. ウエハには、UV光が当たると性質が変わる樹脂（レジスト）が塗ってあり、光が当たった部分には |jhp| jdz| jag| kcn| hzr| qam| bkp| ffl| sbh| kpb| pjl| iyh| hqc| gbv| ldj| nhk| vhh| wio| evl| jbc| zqa| kyd| rkk| abx| ukl| evk| pim| uvh| hpp| znt| qbk| acu| niy| qfu| kdp| ufs| ome| gff| wsi| qql| iuo| uwq| boj| ncj| ddd| udy| kzo| gln| flw| qbv|