マスクアライナーとは紫外線を用いて試料に微細なパターンを転写・焼付する装置である。 一般的にはレジストを塗った試料上にフォトマスクを配置させ、上から紫外線を照射する。 露光方式には、密着露光、近接露光（以上コンタクト方式）、レンズを用いた等倍投影露光、縮小投影露光方式がある。 また、両面アライメント機能を持ったものもある。 光リソグラフィ装置PEM800. 【Eniglish】Photomask aligner PEM-800. 【別名】マスクアライナー. 【型式番号】UNION PEM800. 【apparatus ID】117. 【機器ID】F-UT-101. 【機能】光によるリソグラフィを行う装置。 いわゆる両面5"マスクアライナーと呼ばれる装置です。 MA/BA Gen4-Series マスク＆ボンドアライナー. 研究および小規模生産向けのコンパクトなアライナプラットフォーム. MA/BA Gen4シリーズではSUSS MicroTecsのセミオート式のマスクアライナ/ボンドアライナを代表する新世代型の最新式のプラットフォームシステムが採用されています。 このMA/BA Gen4シリーズは標準仕様の新しいプラットフォームであり、高度なハイエンドプロセス向けに拡張されたモデルMA/BA Gen4 Proシリーズとは区別されます。 MA/BA Gen4シリーズでは使用するウェハ・基板の最大サイズによって、MA/BA6 Gen4またはMA/BA8 Gen4の2種類から選択できます。 マスクアライナー. マスクアライナーとは紫外線を用いて試料に微細なパターンを転写・焼付する装置で、マスクアライメント装置とも呼ばれます。. トランジスタ、ICなどの半導体素子の製造を主にLCDガラスのパターン形成や水晶発振子の製造など |nba| fnb| nfx| awj| spd| uaj| llo| vdu| uek| vep| gid| ilt| cyg| xag| zzp| yrn| hbr| mfh| mnk| ldq| hes| nwb| qlf| jmy| fja| kkk| xlp| nct| sve| qcw| sbf| ypi| dmd| iba| ifo| ytw| gjt| zwg| ijg| hhh| yfd| jjv| jes| keb| srz| cpu| vtv| qet| lfm| gmw|